Ateliér fotografie II a Ateliér designu oděvu a obuvi na Designbloku 2020
Vytvořeno: 8. 10. 2020 od Fotografie II

Ateliér fotografie II a Ateliér designu oděvu a obuvi na Designbloku 2020

7. 10. – 11. 10. 2020

 Openstudio, Gabriel Loci, Holečkova 106/10, Praha 5
sektor A235, 2. patro

 

Expozice Ateliéru fotografie II a Ateliéru designu oděvu a obuvi je spíše postavena na bázi performativního projektu. V rámci něj bude možné vidět fotografický ateliér, ve které studenti uplatní své nápady ve stylingu, make-upu a vytváření scén.

 

Autoři fotografií a módních kolekcí

Den 2
fotografie:Kateřina Sýsová
módní kolekce: Julie Sadloňová a Tomáš Němec

Den 3
fotografie: Viktorie Macánová
módní kolekce: Agáta Seeháková a Alexandra Gnidiaková

Den 4
fotografie: Anna Kmeleva
módní kolekce: Natálie Nepovímová, Kristýna Hrabánková a Jaroslav Vích